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 | 氮氣發生器SPN-500A北京中惠普0-500ml/min，單級不銹鋼過濾器，壓力0.4Mpa，自動防返堿 純度：O2＜3×10-6，露點-56℃，數字顯示 |
 | 氫氣發生器DH-300北京中惠普0-300ml/min，全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999% |
 | 氫氣發生器SPH-300A北京中惠普0-300ml/min，單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999% |
 | 氫氣發生器ATH-500北京中惠普0-500ml/min，純水電解，杜絕堿液干擾，自動補水，采用進口Nafion膜和交替變溫吸附兩級脫水，無需更換過濾器，維護周期可達一年以上，純度更高。 |
 | 氫氣發生器GCD-3000B北京中惠普0-3000ml/min，安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業 |
| | 氫氣發生器TH-500北京中惠普0-500ml/min，采用國際先進的離子膜制氫技術，無需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優點：絕對不污染色譜的任何部件。純度：優于99.999%，壓力：0-0.5MPa |
 | 氫氣發生器SPH-200北京中惠普0-200ml/min，體積小，重量輕，單級過濾，壓力0.3MPa，自動防返堿，純度99.999% |
 | 氫氣發生器GCD-3000(停產)北京中惠普0-3000ml/min，安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業 |
 | 氮氣發生器SPN-300A北京中惠普0-300ml/min，單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿 純度：O2＜3×10-6，露點-56℃，數字顯示 |
 | 氫氣發生器GCD-9000北京中惠普0-9000ml/min，安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業 |
 | 氫氣發生器SPH-500A北京中惠普0-500ml/min，單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999% |
 | 氫氣發生器SPH-300A北京中惠普0-300ml/min，單級不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999% |
 | 氫氣發生器GCD-6000北京中惠普0-6000ml/min，安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業 |
 | 氫氣發生器TH-300北京中惠普0-300ml/min，采用國際先進的離子膜制氫技術，無需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優點：絕對不污染色譜的任何部件。純度：優于99.999%，壓力：0-0.4MPa |
| | 氫氣發生器ATH-300北京中惠普0-300ml/min，純水電解，杜絕堿液干擾，自動補水，采用進口Nafion膜和交替變溫吸附兩級脫水，無需更換過濾器，維護周期可達一年以上，純度更高。 |
 | 氮氣發生器SPN-500北京中惠普0-500ml/min，兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），壓力0.4Mpa，自動防返堿。純度：O2＜3×10-6，露點-56℃，數字顯示 |
 | 氫氣發生器SPH-500北京中惠普0-500ml/min，兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩擋可調，自動防返堿，純度99.999% |
 | 氮氣發生器GCN-1000北京中惠普0-1000ml/min，兩級不銹鋼過濾器，大流量，可同時帶多臺色譜，自動防返堿 純度：O2＜3×10-6，露點-56℃，指針顯示 |
 | 氫氣發生器GCD-2000北京中惠普0-2000ml/min，大流量，可同時帶多臺色譜，自動防返堿，純度 99.999% |
 | 氫氣發生器SPH-300北京中惠普0-300ml/min，兩級不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩檔可調，自動防返堿，純度99.999% |
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